シリコーンゴムはプレス、押出しなどの成型後に
オーブンによる二次加硫（再加熱）をすることが一般的です。
その主な理由は２つあります。
1つ目は、熱履歴を与えることにより、シリコーンゴムの特性を熱安定化させること。
2つ目は低分子量シロキサンを除去すること。
ここでは、2つ目について詳しく解説していきます。
シロキサンとは
シロキサンとは、シリコーンの原料です。
低分子量シロキサンとは、シリコーンゴム製品になった後に
微量に製品内に残ってしまったものです。
この低分子量シロキサンは不純物ではないので、
製品によってはそのまま普通に使うこともできます。
ただ、電子機器などに使用する際にはそのままは使えません。
揮発性の高い低分子量シロキサンが製品内にたくさん残留していると、
電気接点障害を引き起こす可能性があるからです。
その低分子量シロキサンを除去するために行うのが二次加硫です。
二次加硫は200℃で4時間行うことがメーカーから提唱されていますが、
弊社では製品によって温度や時間は変えています。
↓弊社で使用しているオーブン
